JGP450型高真空磁控溅射镀膜仪具有使用频率高、运行成本高、资源占用率高等特点。但在实际使用过程中，该设备具同时具有准备时间长（高能耗）、资源利用率低（低效率）等缺点。磁控溅射镀膜仪多功能支架利用机械传动原理，在不打开镀膜仪腔室，破坏实验环境的前提下，实现多膜片连镀功能。较好地解决镀膜仪在使用中高能耗、低效率的缺陷。节省人力物力成本，提高设备使用效率。其主要特点：
1、相同镀制环境下多膜连镀。突破原结构在镀膜尺寸上的限制。
2、不同镀制环境下多膜连镀。解决原结构必须多周期完成的不足。
3、实验条件的唯一性。避免原结构腔室开闭对实验条件的影响。 | 