| 设备名称： | 微弧氧化设备 |
| 设备用途： | 教学 |
| 设备型号： | WHD-20 |
| 设备来源： | 购置 |
| 经费科目： | 教育事业费 |
| 所在房间： | 新实验楼一楼楼110室 |
| 设备简介： | 是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。 |
| 设备名称： | 微弧氧化设备 |
| 设备用途： | 教学 |
| 设备型号： | WHD-20 |
| 设备来源： | 购置 |
| 经费科目： | 教育事业费 |
| 所在房间： | 新实验楼一楼楼110室 |
| 设备简介： | 是通过电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。 |